Toppan Photomask 與 IBM 簽署合作研發協議,共同研發極紫外光光罩技術應用於 2 奈米半導體技術設計

(SeaPRwire) –   推動 EUV 光罩開發,以實現 IBM 的 2 奈米技術設計

日本東京2024 年 2 月 7 日 — 全球首屈一指的半導體光罩供應商 東ppan Photomask 宣布已與 IBM 簽訂聯合研究與開發協議,涉足 2 奈米 (nm) 邏輯半導體節點,並採用極紫外光 (EUV) 微影技術。此協議還包括下世代半導體上的高數值孔徑 EUV 光罩開發能力。

EUV 光罩 © 東ppan Photomask Co., Ltd.


EUV 光罩 © 東ppan Photomask Co., Ltd.

根據本協議,IBM 和東ppan Photomask 計劃在 2024 年第一季開始的五年期間内在 Albany NanoTech Complex(美國紐約州奧爾巴尼)和東ppan Photomask 的朝霞工廠日本二子玉川)開發光罩能力。

2nm 節點及以後半導體的大規模生產需要先進的材料選擇和工藝控制知識,這已遠遠超出了使用 ArF 準分子雷射作為光源的傳統主流曝光技術的要求。IBM 和東ppan Photomask 的協議將這些必要的材料和流程控制技能結合在一起,為 2nm 節點及以後的印刷提供商業解決方案。

IBM 和東ppan Photomask 擁有悠久的技術合作歷史。2005 年至 2015 年,IBM 和東ppan Photomask(當時的東ppan 印刷)聯合開發了先進半導體的光罩。從 45 奈米節點世代開始,聯合開發的範圍擴展到 32 奈米、22/20 奈米和 14 奈米節點,其中包括最初的 EUV 研發活動。累積技術專業知識對全球半導體產業的進步做出了貢獻。

從那時起,東ppan Photomask 繼續積極開發和生產 EUV 微影技術的光罩和基板材料。此外,製造 EUV 生產和次世代開發光罩需要先進的多束光束微影設備。東ppan Photomask 目前正在安裝多套此類系統,以滿足半導體技術最新路線圖的要求。

照宮輝男,東ppan Photomask 總裁兼執行長表示,「我們與 IBM 的合作對兩家公司來說都非常重要。此協議将在支持半導體微縮、促進產業進步和推動日本半導體行業增長方面發揮關鍵作用。我們非常榮幸能根據技術能力和成本競爭力的全面評估被選為合作夥伴,並且我們致力於加快實現 2nm 及以後技術的微縮化。」

胡銘,IBM 全球半導體研發副總裁表示,「使用 EUV 和高數值孔徑 EUV 微影系統的新光罩能力可能會在設計和生產 2nm 及以後節點的半導體技術中發揮關鍵作用。我們與東ppan Photomask 的合作旨在通過開發新的解決方案來加速先進邏輯規模擴展中的創新,以實現先進晶圓廠的製造能力,這是日本半導體供應鏈的關鍵部分。」

關於東ppan Photomask
東ppan Photomask 公司 (TPC) 是全球首屈一指的半導體光罩供應商,也是 Topan 控股公司 (TYO: 7911) 的集團公司。TPC 的總部位於東京,利用其全球客戶服務網絡和位於主要地理位置的八家製造工廠,透過提供全球最先進的光刻技術。TPC 也在拓展其事業版圖,涉足納米壓印模具和其他奈米製造產品。有關更多訊息,敬請瀏覽。

警語
此新聞稿包含 IBM 和東ppan Photomask 根據當前信念、假設、預期而做出的前瞻性聲明,並涉及可能導致實際結果與當前預期存在重大差異的風險和不確定性。

 

公司聯絡人:                                         

機構聯絡人:

Bud Caverly                                                                  

Angie Kellen

東ppan Photomask                                                      

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